山本・番研究室の共著論文2件が Japanese Journal of Applied Physics に掲載されました

山本・番研究室の共著論文2件が掲載されました。

T. Ban, M. Ogura, S. Yamamoto, MoS2 FET fabrication using adhesion lithography and their application to chemical sensors, Jpn. J. Appl. Phys. 60 016504, 2021. https://doi.org/10.35848/1347-4065/abcf5a

T. Ban, R. Matsumura, S. Yamamoto, HfO2 thin film formed by solution-coating method and application to resistive switching device, Jpn. J. Appl. Phys. 60 014002, 2021. https://doi.org/10.35848/1347-4065/abd368